Imec הכריזה על טייפאאוט ראשון לשבב 5 ננומטר |
|
|
מאת אבי בליזובסקי
שני, 12 אוקטובר 2015 00:42
|
 |
Imec הכריזה על טייפאאוט ראשון לשבב 5 ננומטר |
|
|
מאת אבי בליזובסקי
שני, 12 אוקטובר 2015 00:42
|
|
 |
מרכז המחקר לננו אלקטרוניקה של חברת imec וחברת קיידנס הכריזו על השלמת הטייפאאוט הראשון של שבב בדיקות בטכנולוגית 5 ננומטר תוך שימוש ב- ultraviolet (EUV) ובליתוגרפית 193 immersion.
כדי לייצר את שבב הניסיון ביצעו שתי החברות אופטימיזציה של כללי התכנון הספריות וטכנולוגיות place-and-route technology במטרה להגיע לאופטימיזציה של צריכת החשמל, הביצועים ו-PPA area scaling באמצעות פלטפורמת Innovus של קיידנס.
IMEC הצליחה לבצע טייפ אאוט לתכנון תוך שימוש במערכת תכנון המעבדים שלה, ביחד עם Self-Aligned Quadruple Patterning ) SAQP) עבור ליתוגרפית 193i. כאשר רפי המתכת (pitches) שודרגו מ-32 ננומטר ל-24 ננומטר כדי לדחק את גבולות התבנית.
|
