חברת אפלייד מטיריאלס הכריזה על מערכת Centura Tetra Z Photomask Etch system לחריטת הדור הבא של מסכות הליתוגרפיה האופטית הנדרשות לתעשיה להמשיך בשידרוג מערכות התבניות המרובות לצמתי 10 ננומטר ומעבר להם.

הכלים החדשים מרחיבים את יכולות פלטפורמת טטרה, ומספקים דיוק ברמה של אנגסטרומים בודדים לפרמטרים בממדים קריטיים critical dimension (CD) parameters הנדרשים לעמוד בדרישות של הכנת התבניות להתקני לוגיקה וזכרון עתידיים.

"מערכות Tetra Z מייצגות את טכנולוגית חריטת ה- photomask החדישה ביותר, המאפשרת הנדסת חומרים מדויקת ותנועה של ריאקציות פלסמה כדי להרחיב את השימוש בליתוגרפיית 193 ננומטר" אומר ראו יאלאמאצ'ילי, מנכ"ל חטיבת מסכות החריטה באפלייד מטיריאלס.