 |
פורטל תעשיית השבבים בישראל מבית מגזין |
|
בישראל יצור ((FABs כנס מפתחי ARM: מתווים את הדרך ל-14 ננומטר
מאמרים פופולרייםWarning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 חם בפורומיםWarning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220
|
 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/plugins/system/advancedmodules/modulehelper.php on line 320
מצגת שתוצג בכנס מפתחי ARM שאמור להתקיים בסנטה קלר ב-1 בנובמבר, מראה כי הכנס יתמקד באתגרים ובהזדמנויות שמציגה טכנולוגית ייצור השבבים ברוח NODE של 14 ננומטר הצפויה להבשיל בתוך שנתיים-שלוש, אם הליטוגרפיה תוכל לאפשר זאת. לארס ליברמן, מהנדס עמית של יבמ וגרג ייריק, מהנדס מו"פ בכיר ב-ARM יציגו את המצגת בת 50 הדקות במסגרת הכנס. הדוברים צפויים להראות כמה קשה יהיה להכין תבניות ל-IC שיבצעו אינטראקציה עם מבנים לא לינרים, למשל FinFETs דמויי הסניפירים שיצוצו מעל פני השטח של הסיליקון ואשר צפויים לשמש בשבבים בטכנולוגיה זו. המצגת גם צפויה להכיל סקירה על מצב ליתוגרפית האולטרה-סגול הקיצוני (EUV) ולהסביר כיצד תבנית כפולה העושה שימוש בליתוגרפיה אופטית יכולה לגשר על הפער עד ש-EUV תהיה זמינה. המידע באשר לקלות מורכבות ה- multipatterning ייחשפו אף הם בכס. במצגת גם תיערך סקירה של העקרונות הבסיסיים של FinFET והשפעת טכנולוגיה זו הן על ה-IP הפיזי והן על ה-IP ברמות הגבוהות יורת של המעבדים. לפי אתר EETIMES - שהחברה שמחזיקה בו גם מארגנת את הכנס, המצגת גם תציג מסקנות אודות צריכת החשמל, הביצועים, השטח והעלות של צמתי IC ברוחב 14 ננומטר.
תגובות (0)
 |
שדרת הלוגואים |
|||||||||
 |
בניית אתרים | בעצם גלישתכם באתר הכנם מסכימים לתנאי השימוש בו - לחצו כאן לקריאת תנאי השימוש - כל הזכויות שמורות Chiportal (c) 2010 |
הצג או הסתר תגובות
