מאמרים פופולרייםWarning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 חם בפורומיםWarning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220
|
![]() Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/plugins/system/advancedmodules/modulehelper.php on line 320
המהנדסים רואים אפשריות רבות ליצור טכנולוגיות תהליכי שבבים של 5, 3 ואפילו 2 ננמוטר, אבל חלקם לא בטוחים שיצליחו להוציא מהן יתרונות מסחריים אפילו ב- nm 5. הגידול במורכבות והעלות של ייצור שבבים יותר ויותר קטנים מוביל לפחיתת התשואה. קצבי הנתונים מגיעים לשיא ב-3 GHz במעבדים לסלולר, ויתרונות החשמל והשטח יצטמצמו ב-7 nm, אמר פול פונזס, מנהל הנדסה בכיר בצוות טכנולוגיות התכנון של קוואלקום בפאנל באירוע של קבוצת משתמשי סינופסיס בעמק הסיליקון. הגדלת המהירות ב-16% ב-10 nm עשויה להיעצר ב-7 nm בגלל התנגדות בקווי מתכת. החיסכון בחשמל יקטן מ-30% ב-10 nm ל-10–25% ב-7 nm, והקיטון בשטחים עשוי לקטון מ-37% ב-10 nm ל-20–30% ב-7 nm.
חברי הפנל מסמנוג וסינופסיס גרסו כי ישתמשו בגרסאות של טרנזיסטורי FinFET של היום עד לצומת של 5-nm כי מתחת לרוחב של בערך 3.5 nm, ה-FinFET ייתקלו בגבול קשיח.
בצמתים עתידיים, הקטנת המרווחים תאט לסביבות 0.8x בכל דור, לדברי מורוז מסינופסיס. זה יאלץ את המתכננים להקטין את גובה התאים מכ-228 nm עם שני סנפירים ושש מסילות ב-7 nm ל-130–100 nm עם חמש מסילות וסנפיר אחד ב-3 ו-2 nm, הוסיף. "באמצעות טכניקות כאלה, נראה שהסיליקון יביא אותנו בביטחה עד ל-2 nm, ואחרי זה אולי נפנה לגרפן", סיכם.
תגובות (0)
![]() |
שדרת הלוגואים |
![]() |
בניית אתרים | בעצם גלישתכם באתר הכנם מסכימים לתנאי השימוש בו - לחצו כאן לקריאת תנאי השימוש - כל הזכויות שמורות Chiportal (c) 2010 |