 |
פורטל תעשיית השבבים בישראל מבית מגזין |
|
בישראל יצור ((FABs סמיקון ווסט: מפת הדרכים של הליתוגרפיה מעוררת שאלות פתוחות
מאמרים פופולרייםWarning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_mostread/helper.php on line 79 חם בפורומיםWarning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220 Warning: Creating default object from empty value in /home/chiporta/public_html/modules/mod_kunenalatest/helper.php on line 220
|
אחת הסוגיות שנידונה בשבוע שעבר בכנס סמיקון ווסט בסן פרנסיסקו נגעה לחוסר הודאות באשר למפת הדרכים של הליתוגרפיה המתקדמת. כך מוסר השבוע אתר EETIMES לאי ודאות זו יש השלכות באשר לעלויות ולגרום לכאוס רב בתעשיה ואולם למרות הכרזות אמיצות של ספקים ומשתמשים נראה כי התעשיה מתכוננת לימים קשים יותר. גרג בארלט (Bartlett), סגן נשיא בכיר למחקר ופיתוח בגלובל פאונדריז אמר בנאומו ב-14 ביולי כי החברה תתקין כלי ליטוגרפית EUV מוכנות לייצור בשנת 2012, ותתחיל להשתמש בהם בייצור ככל הנראה ב-2014. ואולם מרבית המאזינים מהתעשיה נשארו ספקנים. ותסמיני חוסר הודאות נשמעו בכל מושב שעסק בליתוגרפיה מתקדמת. ג'ונווק קיי, חבר בכיר בצוות הטכני של גלובל פאונדריז הסיר את הערפל מכמה מהסוגיות בהן עסק בארלט. לדבריו, העוסקים בליטוגפריה כבר עובדים בהתקנים נומריים גבוהים ביותר ונמוכים ביותר מאשר ניתן היה להשיג לפני מספר שנים. גם כך, תבניות אקראיות היו כמעט בלתי אפשריות להדפסה, וציוד הליטוגרפיה הקיים היה חסר אופציות. קיי הזהיר כי העלות המלאה של שימוש בתבניות כפולות גדל כל כך עד שה –EUV שהוא גם כך המכשיר היקר ביותר האפשרי – ייראה כמו חלופה זולה. עדיין, אמר, spacer-defined double patterning יהיה מתקן חיוני לכמה מהשכבות הקריטיות. לכתבה המלאה בנושא ב-EETIMES תגובות (0)
 |
שדרת הלוגואים |
||||||
 |
בניית אתרים | בעצם גלישתכם באתר הכנם מסכימים לתנאי השימוש בו - לחצו כאן לקריאת תנאי השימוש - כל הזכויות שמורות Chiportal (c) 2010 |
הצג או הסתר תגובות
